|
Hafta
|
Konular
|
Ön Hazırlık
|
|
1
|
İnce Film Yapısı ve Karakterizasyon Teknikleri
|
K1- Bölüm-1
|
|
2
|
UV-vis Spektrofotomere
|
K6-Bölüm-2
|
|
3
|
X-Işını Kırınımı (XRD)
|
K1-Bölüm-3
|
|
4
|
Taramalı Elektron Mikroskopu (SEM)
|
K1-Bölüm-10
|
|
5
|
Atomik Kuvvet Mikroskobu (AFM)
|
K3-Bölüm-1
|
|
6
|
Tarama Tünelleme Mikroskobu (STM)
|
K4-Bölüm-1
|
|
7
|
Hall Etkisi Ölçümü
|
K1-Bölüm-15
|
|
8
|
Akım-Gerilim (I-V) Ölçümleri
|
K1-Bölüm15
|
|
9
|
Fotolimünesans (PL)
|
K1-Bölüm-12
|
|
10
|
Raman Spektroskopisi
|
K2-Bölüm-4
|
|
11
|
Spektroskopik Elipsometri (SE)
|
K2-Bölüm-3
|
|
12
|
X-Işını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS)
|
K5-Bölüm-1
|
|
13
|
Fourier Dönüşümü Kızılötesi Spektroskopisinin Temelleri (FITIR)
|
K7-Bölüm-1
|
|
14
|
Kapatisans-Gerilim (C-V) Ölçümleri
|
K1-Bölüm-15
|
|
Ön Koşul
|
-
|
|
Ders Dili
|
Türkçe
|
|
Dersin Sorumlusu
|
Doç. Dr. Olcay GENÇYILMAZ
|
|
Dersi Verenler
|
1-)Doçent Dr Olcay Gençyılmaz
|
|
Ders Yardımcıları
|
Fizik Bölümü Araştırma Görevlileri
|
|
Kaynaklar
|
K1. LAMBERTİ, C., & Agostini, G. (2013). Characterization Semiconductors and Heterostructures and Nanostructures. (2th ed.). Elsevier Science & Technology, New York.
K2. GÜNTHER, B., & Wolfgan, R. (1996). Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers. (1th ed.). Spinger, Berlin.
K3. VOİGTLANDER, B. (2015). Scanning Probe Microscopy: Atomic Force Microscopy and Scanning Tunneling. (1th ed.). Spinger, London.
K4. STROSCİO, J. A., & William, J. K. (1993). Scanning Tunneling Microscopy. (1th ed.). Academic Press, London.
K5. HEİDE VAN DER, P. (2012). X-ray Photoelectron Spectroscopy: An introduction to Principles and Practices. (1th ed.). John Wiley & Sons, New Jersey.
K6. PERKAMPUS, H. H. (1992). UV-VIS Spectroscopy and Its Applications. (1th ed.). Springer, Berlin.
K7. SMİTH, B. C. (2000). Fundamentals of Fourier Transform Infrared Spectroscopy. (2th ed.). CRC Press, London.
|
|
Yardımcı Kitap
|
K1.AYDOĞAN, Ş. (2015). Katıhal Elektroniği. (1. Baskı). Nobel Yayınevi, Türkiye.
K2. SCHODER, D. K. (2006). Semiconductor Material and Device Characterization. (3th ed.).John Wiley & Sons, Canada.
K3. Ders Sunumları.
|
|
Dersin Amacı
|
Yarıiletken ince filmlerin analiz tekniklerini öğrenmektir.
|
|
Dersin İçeriği
|
İnce Film ve Büyütme Teknikleri, X-Işını Kırınımı (XRD), Taramalı Elektron Mikroskopu (SEM),, Atomik Kuvvet Mikroskobu (AFM), Tarama Tünelleme Mikroskobu (STM), Hall Etkisi Ölçümü, Akım-Gerilim (I-V) Ölçümü, Kapisitans-Gerilim (C-V) Ölçümü, Fotolimünesans (PL), Raman Spektroskopisi, Spektroskopik Elipsometri (SE), X-Işını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS),Fourier Dönüşümlü Kızılötesi (FTIR) Spektroskopisi
|
|
Program Yeterlilik Çıktıları |
Katkı Düzeyi |
|
1
|
Lisans bilgilerini lisansüstü aşamasında verimli bir biçimde kullanabilme.
|
3
|
|
2
|
Çalışma alanı ile ilgili literatür taraması yapabilme.
|
3
|
|
3
|
Literatürde yer alan kaynakları okuma, anlama ve yorumlama yeterliliğine sahip olma.
|
3
|
|
4
|
Fizik bilgisini, alanıyla ilgili çalışmalarda karşılaşacağı problemlere uygulayabilme.
|
4
|
|
5
|
Çalışma alanı ile ilgili deneysel sistemleri kullanabilme ve gerektiğinde tasarlayabilme.
|
4
|
|
6
|
Disiplin içi ve disiplinler arası çalışma yapabilme.
|
4
|
|
7
|
Çalışma alanı ile ilgili bilgisayar programlarını kullanabilme ve gerektiğinde program yazılımı yapabilme.
|
-
|
|
8
|
Çalışmasıyla ilgili makale yazabilme ve bilimsel toplantılarda sunabilme.
|
-
|
|
9
|
Uluslararası bilim insanları ile iletişim kurarak fikir alış-verişi yapabilecek düzeyde yabancı dil bilme.
|
-
|
|
10
|
Mesleki ve bilimsel etik bilincine sahip olma.
|
-
|
|
11
|
Bireysel çalışma yeteneğine sahip olma, gerektiğinde inisiyatif alabilme.
|
-
|